AF/AR/IR/AS是什么意思
离子镀膜技术是美国Sandia公司的D。M。Mattox于1963年首先提出来的。是在真空蒸发和真空溅射基础上发展起来的一种新的镀膜技术。离子镀的英文全称Ion Plating,简称IP。它是在真空条件下,应用气体放电实现镀膜的,即在真空室中使气体或蒸发物质电离,在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下,同时将蒸发物或其反应产物蒸镀在基片上。 1972年,Banshah提出了在真空放电蒸镀时,导入反应气体生成化合物的方法,即(活性反应蒸镀法)(简称ARE法)。与此同时,在离子镀时代替氩气导入一部分反应气体生成化合物薄膜,形成了反应性离子镀法(简称RIP法)等等。
根据不同膜材的气化方式和离...全部
离子镀膜技术是美国Sandia公司的D。M。Mattox于1963年首先提出来的。是在真空蒸发和真空溅射基础上发展起来的一种新的镀膜技术。离子镀的英文全称Ion Plating,简称IP。它是在真空条件下,应用气体放电实现镀膜的,即在真空室中使气体或蒸发物质电离,在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下,同时将蒸发物或其反应产物蒸镀在基片上。
1972年,Banshah提出了在真空放电蒸镀时,导入反应气体生成化合物的方法,即(活性反应蒸镀法)(简称ARE法)。与此同时,在离子镀时代替氩气导入一部分反应气体生成化合物薄膜,形成了反应性离子镀法(简称RIP法)等等。
根据不同膜材的气化方式和离化方式,可构成不同类型的离子镀膜方式。膜材的气化方式有:电阻加热,电子束加热,等离子电子束加热,高频感应加热,阴极弧光放电加热等。气体分子或原子的离化和激活方式有:辉光放电型,电子束型,热电子型,等离子电子束型,多弧形及高真空电弧放电型,以及各种形式的离子源等。
不同的蒸发源与不同的电离或激发方式可以有多种不同的组合。目前比较常用的组合方式。收起