什么是邻重氮萘醌正性光致抗蚀剂(
[英文名 adjacentdiazonaphthoquinone positivephotoresist(forICuse)组成正性光刻胶由光分解剂和碱性可 溶性树脂及溶剂组成。性能及用途正性光刻胶由光分解剂和 碱性可溶性树脂及溶剂组成,经过特殊加 工精制成正性光刻胶。 在受紫外线照射 后、光照区光分解剂发生分解,溶于有机 或无机碱性水溶液,未曝光部分被保留下 来,与母版形成相同的图形。该品为琥珀 色液体。易溶于醚、酯、酮等有机溶剂。 应在20°C以下的干燥、避光、远离火源 处储存。 其特点是分辨能力强,可以获得 亚微米级条宽的图形。由于感光速度快,可用于投影曝光和分步重复曝光,胶面较...全部
[英文名 adjacentdiazonaphthoquinone positivephotoresist(forICuse)组成正性光刻胶由光分解剂和碱性可 溶性树脂及溶剂组成。性能及用途正性光刻胶由光分解剂和 碱性可溶性树脂及溶剂组成,经过特殊加 工精制成正性光刻胶。
在受紫外线照射 后、光照区光分解剂发生分解,溶于有机 或无机碱性水溶液,未曝光部分被保留下 来,与母版形成相同的图形。该品为琥珀 色液体。易溶于醚、酯、酮等有机溶剂。 应在20°C以下的干燥、避光、远离火源 处储存。
其特点是分辨能力强,可以获得 亚微米级条宽的图形。由于感光速度快,可用于投影曝光和分步重复曝光,胶面较 干净、均匀性好。在相对湿度50%的环 境中对氧化硅、多晶硅以及铝、铜、金、 铂等均有很好的黏附性和抗蚀性。
它的显 影和曝光操作宽容度大,易于剥离,且耐 热性好,可以耐140°C的烘烤,图形不变 形。一般适用于大规模集成电路和电子工 业元器件及光学机械加工工艺的制作。除 了用于接触曝光外,还可用于投影曝光和 分步重复曝光等。
邻重氮萘醌正性光致抗蚀剂是在紫外 (波长300〜450nm)线通过掩模照射后、 光照部分重氮基发生分解重排生成羧酸、 用稀碱水处理时光照部分溶去,而未曝光 部分则保留的一种光致抗蚀剂,胶层上形 成与掩模相同的图形。
是目前国际上用量 急剧上升的一类抗蚀剂。收起