基坑工程防渗处理怎么进行呢？

基坑工程防渗处理是什么？

当基坑处于地下水位以下，进行基坑开挖时，由于地下水位高于基坑底面，因此会出现地下水流入坑内，使土方开挖及地下室施工困难，同时坑外地下水位会下降，如进行坑内降水和排水，更会降低坑外地下水位，导致坑外地面不均匀下沉，会使周围建筑物、道路、各类地下管线、地下建筑物发生不均匀下沉、变形而导致受损甚至破坏。 其次，由于坑内外的水头差，会导致坑外地下水向坑内渗流，在细粒土如粉质黏土、粉土、粉细砂中有可能造成管涌、流沙等现象。因此，当环境条件不允许坑外地下水位下降，为保证边坡稳定、防止出现管涌、流沙时，需要采取地基防渗措施，阻断坑外地下水向坑内的渗流。 光 1)光的双折射现象 光通过各向异性晶体，...全部

  当基坑处于地下水位以下，进行基坑开挖时，由于地下水位高于基坑底面，因此会出现地下水流入坑内，使土方开挖及地下室施工困难，同时坑外地下水位会下降，如进行坑内降水和排水，更会降低坑外地下水位，导致坑外地面不均匀下沉，会使周围建筑物、道路、各类地下管线、地下建筑物发生不均匀下沉、变形而导致受损甚至破坏。
  其次，由于坑内外的水头差，会导致坑外地下水向坑内渗流，在细粒土如粉质黏土、粉土、粉细砂中有可能造成管涌、流沙等现象。因此，当环境条件不允许坑外地下水位下降，为保证边坡稳定、防止出现管涌、流沙时，需要采取地基防渗措施，阻断坑外地下水向坑内的渗流。
   光 1)光的双折射现象 光通过各向异性晶体，出现两束折射光线，这种现象称为双折射现象。其中一束光线遵从折射定律，称为寻常光线，用ο表示，也称ο光;另一束光线不遵从折射定律，称为非常光线，用e表示，也称e光。
  出现双折射现象的原因是由于ο、e光在晶体中沿各个方向的传播速度不同(因而折射率也不同)。 2)光轴 光沿某一特定方向通过各向异性晶体时，不产生双折射现象，在这个方向，ο、e光的传播速度相同，这个特定的方向就是晶体的光轴。
  注意，光轴代表一个方向，而不是一条直线。 3)主截面 通过光轴并与晶体的任一晶面正交的面称为该晶体的主截面。 当入射光线在主截面内时，ο、e光均在主截面内，但ο光的振动方向垂直于主截面，e光的振动方向平行于主截面，ο光和e光都是偏振光。
   地下水作用 ①地下水量的增加，使土体含水量增大，滑动面上的抗滑力减少而下滑。由实验可知，黏性土的抗剪强度随土的含水量增加而显著减少。 ②地下水位的增高，使土体的重度增大，浸湿范围加大，浸湿程度加剧，降低山坡体土的黏聚力。
  在黏性土层中最易沿此层发生滑动。 ③地下水流速的加大，促使土的潜蚀作用，破坏了坡体的稳定性而滑动。 ④地下水动水压力和静水压力都是助长滑动的因素。收起