光刻胶残留物清洗剂是什么？
英文名 photoresistresiduesofcleaning agents别名光刻清洗剂组成选用多种优质表面活性剂、调节 剂、渗透剂、缓蚀剂和去离子水等配制 而成。 配方一般，表面活性剂是聚环氧乙烷、聚 环氧丙烷、环氧乙烷和环氧丙烷的嵌段共 聚物，在所述嵌段共聚物中加入烷基获得 的亲水聚合物中的至少一种；氟化铵盐是 氟化铵、二氟化铵、四甲基氟化铵、四丁 基氟化铵、三乙醇氟化铵、甲基二乙醇氟 化铵中的至少一种；有机磺酸是甲磺酸、 乙磺酸、丙磺酸、对甲苯硝酸、十二烷基苯磺酸中的至少一种；渗透剂是JFC渗 透剂；有机溶剂是乙二醇单甲醚、乙二醇 单乙醚、乙二醇单丁醚、乙二醇单苯醚、 二乙二...全部
英文名 photoresistresiduesofcleaning agents别名光刻清洗剂组成选用多种优质表面活性剂、调节 剂、渗透剂、缓蚀剂和去离子水等配制 而成。
配方一般，表面活性剂是聚环氧乙烷、聚 环氧丙烷、环氧乙烷和环氧丙烷的嵌段共 聚物，在所述嵌段共聚物中加入烷基获得 的亲水聚合物中的至少一种；氟化铵盐是 氟化铵、二氟化铵、四甲基氟化铵、四丁 基氟化铵、三乙醇氟化铵、甲基二乙醇氟 化铵中的至少一种；有机磺酸是甲磺酸、 乙磺酸、丙磺酸、对甲苯硝酸、十二烷基苯磺酸中的至少一种；渗透剂是JFC渗 透剂；有机溶剂是乙二醇单甲醚、乙二醇 单乙醚、乙二醇单丁醚、乙二醇单苯醚、 二乙二醇单丁醚、二乙二醇单乙醚、二丙 二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二乙二醇 单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、 丙二醇单丁醚中的至少一种；含氮羧酸是 乙二胺四乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、三 亚乙基四胺六乙酸或次氨基三乙酸铵盐、 钠盐中的至少一种；缓蚀剂是聚丙烯酸、 聚丙烯酰胺、聚马来酸酐、巯基琥珀酸、 柠檬酸、乳酸、没食子酸、马来酸、马来 酸酐中的至少一种；纯水是经过离子交换 树脂过滤的水，25°C其电阻率至少为 18Mn• cm〇。收起
