DLC涂层设备的技术原理是怎样的？

DLC涂层兼备高硬度（＞HV2700）及较低的干摩擦系数（0.06-0.1），是一种可实现无油自润滑的涂层。该涂层极低的涂层处理温度，Z低可达130度，适合于所有金属材料及大多数有色金属的基体，并且DLC涂层不改变零件的有效尺寸及表面粗糙度。[收起]

合生涂层的DLC（类金刚石）涂层镀膜设备采用的是直流磁控溅射+线性离子束复合技术。

 直流磁控溅射技术原理：电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极溅射靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜。

线性离子束技术原理：在真空条件下（1.0×10-1~1.0×10Pa) ，利用在阴阳极板间电离碳氢气体放电，并利用电场的加速作用，使被电离的碳氢基团沉积在工件上。[收起]

我们利晟纳米做的是一种微米级、无污染的环保型涂层。是通过“物理i气相沉积”方式的一种表面处理方式。通常简称为PVD，是英文Physical Vapor Deposition的缩写，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。[收起]