高纯金属钨靶是制造集成电路的基本材料之一,其市场前景与集成电路发展密切相关;若钨靶纯度不高,将造成大规模集成电路的作业可...[展开]
高纯金属钨靶是制造集成电路的基本材料之一,其市场前景与集成电路发展密切相关;若钨靶纯度不高,将造成大规模集成电路的作业可靠性降低,甚至产生泄电现象。采用高纯钨,可减少甚至消除有害杂质的影响,提高终端产品的性能。[收起]
微电子技术中大规模集成电路集成度的提高对材料提出了更高要求,传统的Si基器件已不再适用。高纯钨或超纯钨(5N或6N)由于...[展开]
微电子技术中大规模集成电路集成度的提高对材料提出了更高要求,传统的Si基器件已不再适用。高纯钨或超纯钨(5N或6N)由于具有高电子迁移抗力、高温稳定性以及非常高的电子发射系数,广泛用作半导体大规模集成电路的门电路电极材料、布线材料和屏蔽金属材料。[收起]
高纯钨是一种制造集成电路的基本材料。材料形状可以是箔膜,薄片,靶材,细丝,绝缘线,直棒,圆管,粉末,单晶体等。广泛用作半...[展开]
高纯钨是一种制造集成电路的基本材料。材料形状可以是箔膜,薄片,靶材,细丝,绝缘线,直棒,圆管,粉末,单晶体等。广泛用作半导体大规模集成电路的门电路电极材料、布线材料和屏蔽金属材料。[收起]
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